发明授权
- 专利标题: Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
- 专利标题(英): Device for radiating a substrate
- 专利标题(中): 装置用于照射衬底
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申请号: EP09171971.6申请日: 2009-10-01
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公开(公告)号: EP2192366B1公开(公告)日: 2016-07-27
- 发明人: Semanic, Asmir
- 申请人: Uviterno AG
- 申请人地址: Musterplatzstrasse 3 9442 Berneck CH
- 专利权人: Uviterno AG
- 当前专利权人: Uviterno AG
- 当前专利权人地址: Musterplatzstrasse 3 9442 Berneck CH
- 代理机构: Stocker, Kurt
- 优先权: CH18802008 20081201
- 主分类号: F26B3/28
- IPC分类号: F26B3/28 ; B41F23/04
公开/授权文献
- EP2192366A3 Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats 公开/授权日:2014-01-01
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