发明授权
EP2192366B1 Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats 有权
装置用于照射衬底

  • 专利标题: Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
  • 专利标题(英): Device for radiating a substrate
  • 专利标题(中): 装置用于照射衬底
  • 申请号: EP09171971.6
    申请日: 2009-10-01
  • 公开(公告)号: EP2192366B1
    公开(公告)日: 2016-07-27
  • 发明人: Semanic, Asmir
  • 申请人: Uviterno AG
  • 申请人地址: Musterplatzstrasse 3 9442 Berneck CH
  • 专利权人: Uviterno AG
  • 当前专利权人: Uviterno AG
  • 当前专利权人地址: Musterplatzstrasse 3 9442 Berneck CH
  • 代理机构: Stocker, Kurt
  • 优先权: CH18802008 20081201
  • 主分类号: F26B3/28
  • IPC分类号: F26B3/28 B41F23/04
Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
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