利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

12 条记录 (耗时 0.012 秒)

    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
    1.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats 有权

    公开(公告)号：EP2192366A2

    公开(公告)日：2010-06-02

    申请号：EP09171971.6

    申请日：2009-10-01

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Semanic, Asmir

    IPC分类号： F26B3/28

    CPC分类号： F26B3/28 ,  B41F23/0409 ,  B41F23/0453

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen weist eine längliche UV-Lampe (3) mit Reflektor (4) entlang einer Längsachse (A) auf. Die Lampe (3) ist derart in einem Gehäuse (1) angeordnet, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt an einer Austrittsseite aus dem Gehäuse (1) austreten. Es ist eine erste Kühlanordnung (7, 8, 13, 14) zum Kühlen der UV-Lampe (3) durch einen Kühlgasstrom vorgesehen und eine zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) zum Kühlen des Kühlgasstromes mittels eines Fluids. Die Austrittsseite des Gehäuses (1) ist durch eine UV-durchlässige Platte (2) abgeschlossen. Zum Kühlen der UV-Lampe (3) sind nun mindestens zwei quer zur Längsachse (A) blasende Einheiten mit je einem Gebläse (8) vorgesehen, durch deren Luftführung die Kühlluft auf die UV-Lampe (3) leitbar, an den Wandungen des Reflektors (4) vorbei leitbar und schliesslich wieder dem Gebläse (8) zuführbar ist. Die zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) weist Kühlflächen (13, 15) am Wege der Kühlluft auf und führt so die Wärme nach aussen ab.

    摘要翻译： 该装置具有沿着纵向轴线（A）的具有反射器（4）的细长的紫外线灯（3），其中紫外线灯布置在壳体（1）中。 提供冷却装置，用于通过冷却气流冷却紫外线灯。 提供另一冷却装置用于通过流体冷却冷却气流。 两个单元设置有用于冷却紫外灯的鼓风机，其中单元横向于纵向轴线吹动。 后一种冷却装置在冷却气体的路径处具有冷却表面并向外散发热量。

    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats
    4.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats 有权
    装置用于照射衬底

    公开(公告)号：EP2192366A3

    公开(公告)日：2014-01-01

    申请号：EP09171971.6

    申请日：2009-10-01

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Semanic, Asmir

    IPC分类号： F26B3/28 ,  F21V29/02

    CPC分类号： F26B3/28 ,  B41F23/0409 ,  B41F23/0453

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen weist eine längliche UV-Lampe (3) mit Reflektor (4) entlang einer Längsachse (A) auf. Die Lampe (3) ist derart in einem Gehäuse (1) angeordnet, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt an einer Austrittsseite aus dem Gehäuse (1) austreten. Es ist eine erste Kühlanordnung (7, 8, 13, 14) zum Kühlen der UV-Lampe (3) durch einen Kühlgasstrom vorgesehen und eine zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) zum Kühlen des Kühlgasstromes mittels eines Fluids. Die Austrittsseite des Gehäuses (1) ist durch eine UV-durchlässige Platte (2) abgeschlossen. Zum Kühlen der UV-Lampe (3) sind nun mindestens zwei quer zur Längsachse (A) blasende Einheiten mit je einem Gebläse (8) vorgesehen, durch deren Luftführung die Kühlluft auf die UV-Lampe (3) leitbar, an den Wandungen des Reflektors (4) vorbei leitbar und schliesslich wieder dem Gebläse (8) zuführbar ist. Die zweite Kühlanordnung (5, 5', 17) weist Kühlflächen (13, 15) am Wege der Kühlluft auf und führt so die Wärme nach aussen ab.

    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen
    5.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen 审中-公开
    装置，通过紫外线的照射装置的基板

    公开(公告)号：EP2031330A3

    公开(公告)日：2014-03-05

    申请号：EP08162491.8

    申请日：2008-08-18

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Auerswald, Jerry ,  Semanic, Asmir ,  Richartz, Stefan ,  Huber, Reto

    IPC分类号： F26B3/28 ,  B41F23/04 ,  F21V29/02

    CPC分类号： F21V29/65 ,  B41F23/0453 ,  F26B3/28

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen, weist eine UV-Lampe (9) und einen zugeordneten Reflektor (24) auf, welche derart in einem Gehäuse (2) angeordnet sind, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt auf einer Austrittsseite (10) aus dem Gehäuse (2) austreten. Eine Kühleinrichtung (17, 21, 23) zum Kühlen der UV-Lampe (9), insbesondere unter Verwendung zweier Kühlfluide ([1], [2], 23) ist ebenfalls vorgesehen. Das Gehäuse (2) weist wenigstens einen Einlass (22) für ein von einem Förderer (21) zwangsläufig zur Strömung angetriebenes Kühlgas und wenigstens einen Auslass (20) dafür auf, so dass Kühlgas durch das Gehäuse (2) hindurchleitbar ist. Diese Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass
    a) der UV-Lampe (9) ein beweglicher Verschluss (12, 13) zugeordnet ist; dass
    b) der Verschluss (12, 13) mit einem Antrieb (14-16) versehen und mit dessen Hilfe um die Längsachse der UV-Lampe (9) entlang einer Rotationsbahn drehbar ist, und dass
    c) wenigstens ein Teil des Verschlusses (12, 13) mit Förderflügeln (17) für das Kühlgas versehen ist.

    Verfahren zum Betrieb einer UV-Lampe
    7.
    发明公开
    Verfahren zum Betrieb einer UV-Lampe 有权

    公开(公告)号：EP2088837A1

    公开(公告)日：2009-08-12

    申请号：EP08101250.2

    申请日：2008-02-04

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Semanic, Asmir ,  Richartz, Stefan

    IPC分类号： H05B41/288

    CPC分类号： H05B41/2883 ,  H05B41/388

    摘要： Ein Verfahren zum Betrieb einer UV-Lampe (8) umfasst die folgenden Schritte:
    - ein Umrichter (1) erzeugt eine bipolare Speisespannung, wobei den Strom begrenzende Mittel (13) vorgesehen sind,
    - der Umnrichter (1) wird vom Versorgungsnetz gespeist, und er erzeugt eine einstellbare bipolare Speisespannung mit wählbarer, einstellbarer Frequenz, wobei beides durch eine elektronische Steuerung (14) vorgebbar ist,
    - es wird ein Zündvorgang (B, D) an der Lampe (8) eingeleitet, und die Zündung (D) wird mittels der Steuerung (14) überwacht,
    - nach der Zündung (D) folgt eine Einbrennphase (D, E), indem mindestens einer der Parameter, umfassend Temperatur, Spannung und Strom, von der Steuerung (14) erfasst und die bipolare Speisespannung und/oder die Frequenz am Umrichter (1) derart eingestellt wird, dass die Lampenparameter eingehalten werden,
    - danach wird zum Erreichen der Betriebsbereitschaft (E, F) die Lampensollleistung durch Variieren der Frequenz oder der Spannung zum Einstellen der gewünschten Lampenleistung für die folgende Betriebsphase (G, H) vorgegeben.

    摘要翻译： 该方法包括在阶段完成预设燃烧之后预置灯参考功率而不超过附加参数，使得获得UV气体放电灯（8）的操作状态。 通过改变频率和电压来调整连续工作阶段所需的灯功率。 灯具参考功率的预设和所需灯功率的调节由电子控制器（14）控制。 以外围接口的形式提供上级控制的期望数据，以进一步处理开发。

    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen
    9.
    发明公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen 审中-公开
    Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats手套UV-Strahlen

    公开(公告)号：EP2031330A2

    公开(公告)日：2009-03-04

    申请号：EP08162491.8

    申请日：2008-08-18

    申请人： Uviterno AG

    发明人： Auerswald, Jerry ,  Semanic, Asmir ,  Richartz, Stefan ,  Huber, Reto

    IPC分类号： F26B3/28

    CPC分类号： F21V29/65 ,  B41F23/0453 ,  F26B3/28

    摘要： Eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Substrats mittels UV-Strahlen, weist eine UV-Lampe (9) und einen zugeordneten Reflektor (24) auf, welche derart in einem Gehäuse (2) angeordnet sind, dass UV-Strahlen direkt oder indirekt auf einer Austrittsseite (10) aus dem Gehäuse (2) austreten. Eine Kühleinrichtung (17, 21, 23) zum Kühlen der UV-Lampe (9), insbesondere unter Verwendung zweier Kühlfluide ([1], [2], 23) ist ebenfalls vorgesehen. Das Gehäuse (2) weist wenigstens einen Einlass (22) für ein von einem Förderer (21) zwangsläufig zur Strömung angetriebenes Kühlgas und wenigstens einen Auslass (20) dafür auf, so dass Kühlgas durch das Gehäuse (2) hindurchleitbar ist. Diese Vorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass
    a) der UV-Lampe (9) ein beweglicher Verschluss (12, 13) zugeordnet ist; dass
    b) der Verschluss (12, 13) mit einem Antrieb (14-16) versehen und mit dessen Hilfe um die Längsachse der UV-Lampe (9) entlang einer Rotationsbahn drehbar ist, und dass
    c) wenigstens ein Teil des Verschlusses (12, 13) mit Förderflügeln (17) für das Kühlgas versehen ist.

    摘要翻译： 该装置具有紫外线（UV）灯（9）和布置在具有用于冷却气体的出口（20）和入口（22））的壳体（2）中的反射器，其中紫外线直接或间接地以UV透明 板（10）。 传送机翼（17），鼓风机（21）和冷却通道（23）通过冷却流体冷却灯。 灯具有可移动的封闭件（12,13），其具有电动机（14-16），其中闭合件可以通过电动机沿着旋转路径围绕灯的纵向轴线旋转。 封闭件的一部分设置有用于冷却气体的机翼。