发明授权
- 专利标题: CRYSTALLINE CHROMIUM ALLOY DEPOSIT
- 专利标题(中): 涂布结晶铬合金
-
申请号: EP08835384.2申请日: 2008-10-02
-
公开(公告)号: EP2217745B1公开(公告)日: 2014-06-11
- 发明人: ROUSSEAU, Agnes , BISHOP, Craig, V.
- 申请人: Atotech Deutschland GmbH
- 申请人地址: Erasmusstrasse 20 10553 Berlin DE
- 专利权人: Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人: Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人地址: Erasmusstrasse 20 10553 Berlin DE
- 代理机构: Albrecht, Thomas
- 优先权: US976805P 20071002
- 国际公布: WO2009046181 20090409
- 主分类号: C25D3/06
- IPC分类号: C25D3/06 ; C25D3/10
公开/授权文献
- EP2217745A1 CRYSTALLINE CHROMIUM ALLOY DEPOSIT 公开/授权日:2010-08-18
信息查询