ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION

发明公开

EP2433178A4 ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 审中-公开

标题翻译：光化辐射敏感性树脂组合物及结构形成方法使用该组合物

专利标题： ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
专利标题（中）： 光化辐射敏感性树脂组合物及结构形成方法使用该组合物
申请号： EP10777867

申请日： 2010-05-20
公开(公告)号： EP2433178A4

公开(公告)日： 2012-11-21
发明人: TSUCHIHASHI TORU , TSUBAKI HIDEAKI , SHIRAKAWA KOJI , TAKAHASHI HIDENORI , TSUCHIMURA TOMOTAKA
申请人： FUJIFILM CORP
专利权人： FUJIFILM CORP
当前专利权人： FUJIFILM CORP
优先权： JP2009124353 2009-05-22; JP2009130405 2009-05-29; JP2009134291 2009-06-03
主分类号： G03F7/039
IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004 ; H01L21/027

信息查询

Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/039	..可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F7/023）