发明授权
- 专利标题： Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
- 专利标题（中）： 微光刻投射曝光设备的照明系统
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申请号： EP12156900.8申请日： 2007-10-01
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公开(公告)号： EP2458425B1公开(公告)日： 2013-09-11
- 发明人: Fiolka, Damian , Maul, Manfred , Schwab, Markus , Seitz, Wolfgang , Dittmann, Olaf
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Frank, Hartmut
- 优先权： DE102007010650 20070302
- 主分类号： G02B27/28
- IPC分类号： G02B27/28 ; G03F7/20 ; G02B3/00
公开/授权文献
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