发明公开
- 专利标题： Hochspannungseinrichtung und Verfahren zum Monitoring von Alterungsprozessen einer Isolierung in einer Hochspannungseinrichtung
- 专利标题（英）： High voltage device and method for monitoring degradation of insulation in a high voltage device
- 专利标题（中）： 高电压器件和方法，用于在高电压设备监视隔离的老化过程的
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申请号： EP11192353.8申请日： 2011-12-07
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公开(公告)号： EP2472688A3公开(公告)日： 2014-05-07
- 发明人: Habel, Wolfgang , Heidmann, Gerd
- 申请人： BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung , IPH Institut "Prüffeld für elektrische Hochleistungstechnik" GmbH
- 申请人地址： Unter den Eichen 87 12205 Berlin DE
- 专利权人： BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung,IPH Institut "Prüffeld für elektrische Hochleistungstechnik" GmbH
- 当前专利权人： BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung,IPH Institut "Prüffeld für elektrische Hochleistungstechnik" GmbH
- 当前专利权人地址： Unter den Eichen 87 12205 Berlin DE
- 代理机构： Zimmermann & Partner
- 优先权： DE102010061607 20101228
- 主分类号： G01D5/26
- IPC分类号： G01D5/26 ; G01R31/12 ; G01D5/353 ; H02G15/068 ; H02G15/105 ; H02G1/00
摘要：
Es wird ein Verfahren zum Monitoring von Alterungsprozessen einer Isolierung (2, 3, 32) in einer Hochspannungseinrichtung (100, 101, 102, 103, 200) angegeben. Das Verfahren umfasst die Messung eines in der Isolierung (2, 3, 32) erzeugten Lichtsignals mit einem ersten faseroptischen Sensor (20, 21) und die Messung einer mechanischen Größe der Isolierung (2, 3, 32) mit einem zweiten faseroptischen Sensor (30, 31), sowie das Abschätzen eines Alterungszustandes der Isolierung. Außerdem wird eine Hochspannungseinrichtung (100, 101, 102, 103, 200) mit einer transparenten oder transluzenten Isolierung (2, 3, 32) und zwei faseroptischen Sensoren (20, 21, 30, 31) angegeben.
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