发明公开
EP2573800A4 DIFFUSION AGENT COMPOSITION, METHOD OF FORMING AN IMPURITY DIFFUSION LAYER, AND SOLAR CELL
有权
DIFFUSIONSMITTELZUSAMMENSETZUNG，VERFAHREN ZUR FORMUNG EINER UNREINHEITENDIFFUSIONSSCHICHT UND SOLARZELLE
- 专利标题： DIFFUSION AGENT COMPOSITION, METHOD OF FORMING AN IMPURITY DIFFUSION LAYER, AND SOLAR CELL
- 专利标题（中）： DIFFUSIONSMITTELZUSAMMENSETZUNG，VERFAHREN ZUR FORMUNG EINER UNREINHEITENDIFFUSIONSSCHICHT UND SOLARZELLE
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申请号： EP11783206申请日： 2011-04-12
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公开(公告)号： EP2573800A4公开(公告)日： 2014-11-26
- 发明人: MUROTA ATSUSHI , HIRAI TAKAAKI
- 申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
- 专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
- 当前专利权人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
- 优先权： JP2010113536 2010-05-17
- 主分类号： H01L21/22
- IPC分类号： H01L21/22 ; H01L21/225 ; H01L21/228 ; H01L31/04
摘要：
The disclosed diffusion agent composition is used in the formation of an impurity diffusion agent layer on a semiconductor substrate, and contains (A) an impurity diffusion component, (B) a silicon compound, and (C) a solvent containing (C1) a solvent with a boiling point of 100C or less, (C2) a solvent with a boiling point of 120-180C, and a (C3) solvent with a boiling point of 240-300C.
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