发明公开
EP2681760A4 METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS USING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY
审中-公开
方法和系统模式的生产中使用承载器射线光刻
- 专利标题： METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS USING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY
- 专利标题（中）： 方法和系统模式的生产中使用承载器射线光刻
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申请号： EP12751849申请日： 2012-02-15
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公开(公告)号： EP2681760A4公开(公告)日： 2016-12-07
- 发明人: FUJIMURA AKIRA , ZABLE HAROLD ROBERT
- 申请人： D2S INC
- 专利权人： D2S INC
- 当前专利权人： D2S INC
- 优先权： US201113037263 2011-02-28; US201113329315 2011-12-18; US201113329314 2011-12-18
- 主分类号： H01J37/302
- IPC分类号： H01J37/302 ; B82Y10/00 ; B82Y40/00 ; H01J37/317
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