发明授权
EP2705176B1 ELECTROPLATING BATH AND METHOD FOR PRODUCING DARK CHROMIUM LAYERS
有权
VERFAHREN ZER HERSTELLUNG VON DUNKLEN CHROMSCHICHTEN的GALVANISIERUNGSBAD
- 专利标题： ELECTROPLATING BATH AND METHOD FOR PRODUCING DARK CHROMIUM LAYERS
- 专利标题（中）： VERFAHREN ZER HERSTELLUNG VON DUNKLEN CHROMSCHICHTEN的GALVANISIERUNGSBAD
-
申请号： EP12717725.1申请日： 2012-04-27
-
公开(公告)号： EP2705176B1公开(公告)日： 2016-04-13
- 发明人: SCHULZ, Klaus-Dieter , WACHTER, Philipp , HARTMANN, Philip
- 申请人： Atotech Deutschland GmbH
- 申请人地址： Erasmusstraße 20 10553 Berlin DE
- 专利权人： Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人： Atotech Deutschland GmbH
- 当前专利权人地址： Erasmusstraße 20 10553 Berlin DE
- 代理机构： Wonnemann, Jörg
- 优先权： EP11164641 20110503
- 国际公布： WO2012150198 20121108
- 主分类号： C25D3/06
- IPC分类号： C25D3/06 ; C25D3/08 ; C25D3/10
摘要：
The invention relates to methods and plating baths for electrodepositing a dark chromium layer on a workpiece. The trivalent chromium electroplating baths comprise sulphur compounds and the methods for electrodepositing a dark chromium layer employ these trivalent chromium electroplating baths. The dark chromium deposits and workpieces carrying dark chromium deposits are suited for application for decorative purposes.
公开/授权文献
信息查询
