发明公开
- 专利标题： A pellicle for lithography
- 专利标题（中）： 平版印刷用薄膜
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申请号： EP13195988.4申请日： 2013-12-06
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公开(公告)号： EP2749945A2公开(公告)日： 2014-07-02
- 发明人: Toru, Shirasaki
- 申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： 6-1 Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004 JP
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： 6-1 Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0004 JP
- 代理机构： TBK
- 优先权： JP2012280600 20121225
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G03F1/64
摘要：
There is provided a pellicle wherein the frame is cut with one or more slight-chamfers, and in particular the one cut along the inner edge of the upper annular face of the frame, to which the pellicle membrane is glued, has a slope greater than 45 degrees so that the pellicle membrane when slackened does not touch the lower ridge of the slight chamfer.
公开/授权文献
- EP2749945A3 A pellicle for lithography 公开/授权日：2017-12-27
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