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EP2750165A4 ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD 有权
设备对于电子光刻和光刻工艺

  • 专利标题： ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD
  • 专利标题（中）： 设备对于电子光刻和光刻工艺
  • 申请号： EP12838883
    申请日： 2012-09-27
  • 公开(公告)号： EP2750165A4
    公开(公告)日： 2015-04-01
  • 发明人: YASUDA HIROSHI
  • 申请人： PARAM CORP
  • 专利权人： PARAM CORP
  • 当前专利权人： PARAM CORP
  • 优先权： JP2011219530 2011-10-03; JP2012120130 2012-05-25
  • 主分类号： H01J37/04
  • IPC分类号： H01J37/04 ;  H01J37/305 ;  H01J37/317
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD
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