专利检索 ap:("PARAM CORP") AND inv:"YASUDA HIROSHI" 第 1 页

1.

发明公开
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE AND LITHOGRAPHIC METHOD 有权
标题翻译：设备对于电子光刻和光刻工艺

公开(公告)号：EP2750165A4

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：EP12838883

申请日：2012-09-27

申请人： PARAM CORP

发明人： YASUDA HIROSHI

IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/305 , H01J37/317

CPC分类号： H01J37/147 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01J2237/31774

2.

发明公开
ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM DEVICE 有权
标题翻译：电子手枪和电子束装置

公开(公告)号：EP2680294A4

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：EP11859058

申请日：2011-02-25

申请人： PARAM CORP

发明人： YASUDA HIROSHI

IPC分类号： H01J1/148 , H01J1/26 , H01J29/48 , H01J37/075 , H01J37/317

CPC分类号： H01J29/485 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/148 , H01J1/26 , H01J37/065 , H01J37/07 , H01J37/075 , H01J37/26 , H01J37/3174

3.

发明公开
ELECTRON LENS AND THE ELECTRON BEAM DEVICE 有权
标题翻译：电子透镜和ELECTRON DEVICE

公开(公告)号：EP2587517A4

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：EP11836299

申请日：2011-10-25

申请人： PARAM CORP

发明人： YASUDA HIROSHI

IPC分类号： H01J37/143 , H01J37/141 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/027

CPC分类号： H01J3/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/20 , H01J37/143 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/1405