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发明公开
EP2758986A4 METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZATION OF AN IMAGE ON A SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED USING OPTICAL LITHOGRAPHY 审中-公开
方法和系统用于优化图像的光学光刻技术的手段来完成ENDS衬底

  • 专利标题： METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZATION OF AN IMAGE ON A SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED USING OPTICAL LITHOGRAPHY
  • 专利标题（中）： 方法和系统用于优化图像的光学光刻技术的手段来完成ENDS衬底
  • 申请号： EP12833285
    申请日： 2012-09-10
  • 公开(公告)号： EP2758986A4
    公开(公告)日： 2015-08-19
  • 发明人: FUJIMURA AKIRA
  • 申请人： D2S INC
  • 专利权人： D2S INC
  • 当前专利权人： D2S INC
  • 优先权： US201113236610 2011-09-19
  • 主分类号： G03F1/20
  • IPC分类号： G03F1/20 ;  B82Y10/00 ;  B82Y40/00 ;  G03F1/36 ;  G03F1/78 ;  G03F7/20 ;  H01J37/317 ;  H01L21/027
METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZATION OF AN IMAGE ON A SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED USING OPTICAL LITHOGRAPHY
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