发明公开
- 专利标题： PROCESS AWARE METROLOGY
- 专利标题（中）： 过程考虑的计量学
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申请号： EP12833283申请日： 2012-09-20
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公开(公告)号： EP2758990A4公开(公告)日： 2015-10-14
- 发明人: LIU XUEFENG , CHUANG YUNG-HO ALEX , FIELDEN JOHN , TSAI BIN-MING BENJAMIN , ZHANG JINGJING
- 申请人： KLA TENCOR CORP
- 专利权人： KLA TENCOR CORP
- 当前专利权人： KLA TENCOR CORP
- 优先权： US201161538699 2011-09-23
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; G03F7/20
摘要：
Systems and methods for process aware metrology are provided.
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