发明授权
- 专利标题： MICROARRAY FABRICATION SYSTEM AND METHOD
- 专利标题（中）： 微阵列制造系统和方法
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申请号： EP12791335.8申请日： 2012-10-26
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公开(公告)号： EP2771103B1公开(公告)日： 2017-08-16
- 发明人: BOWEN, Shane M. , GUNDERSON, Kevin L. , LIN, Shengrong , BACIGALUPO, Maria Candelaria Rogert , VIJAYAN, Kandaswamy , WU, Yir-Shyuan , VENKATESAN, Bala Murali , TSAY, James , BEIERLE, John M. , BERTI, Lorenzo , PARK, Sang Ryul
- 申请人： Illumina, Inc.
- 申请人地址： 5200 Illumina Way San Diego, CA 92122 US
- 专利权人： Illumina, Inc.
- 当前专利权人： Illumina, Inc.
- 当前专利权人地址： 5200 Illumina Way San Diego, CA 92122 US
- 代理机构： Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
- 优先权： US201161552712P 20111028
- 国际公布： WO2013063382 20130502
- 主分类号： B01J19/00
- IPC分类号： B01J19/00 ; C12Q1/68 ; C40B50/18
公开/授权文献
- EP2771103A2 MICROARRAY FABRICATION SYSTEM AND METHOD 公开/授权日：2014-09-03
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