发明公开
EP2902396A1 Novel dithiocarbamate tantalum organic precursors and their use for vapor phase deposition of tantalum containing films
审中-公开
新颖有机二硫代氨基甲酸钽前驱物和其用于含钽薄膜的气相涂层使用
- 专利标题： Novel dithiocarbamate tantalum organic precursors and their use for vapor phase deposition of tantalum containing films
- 专利标题（中）： 新颖有机二硫代氨基甲酸钽前驱物和其用于含钽薄膜的气相涂层使用
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申请号： EP14305118.3申请日： 2014-01-30
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公开(公告)号： EP2902396A1公开(公告)日： 2015-08-05
- 发明人: Correia Anacleto, Antony , Lachaud, Christophe , Pinchart, Audrey , Zauner, Andreas
- 申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
- 申请人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 专利权人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
- 当前专利权人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
- 当前专利权人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 代理机构： Grout de Beaufort, François-Xavier
- 主分类号： C07F9/00
- IPC分类号： C07F9/00 ; C23C16/455 ; H01L21/285
摘要：
Compounds of formula (I) : M(R 1 CS 2 )R 2 R 3 R 4 R 5
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 are organic ligands being independently selected in H, C1-C4 alkyl group linear or branched, aryl group, silyl group, alkylamine group, alkylsylilamine group.
M is tantalum.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 are organic ligands being independently selected in H, C1-C4 alkyl group linear or branched, aryl group, silyl group, alkylamine group, alkylsylilamine group.
M is tantalum.
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