发明公开

Versorgungseinrichtung zur Erzeugung eines gepulsten Fluidstrahls, Applikationssystem mit Versorgungseinrichtung und Steuerverfahren zum Betreiben einer Versorgungseinrichtung
摘要:
Die Anmeldung betrifft eine Versorgungseinrichtung mit mindestens einem Auslass zum Anschluss eines Applikatorinstruments und mit einer Steuerung (51), die mindestens ein Ventil (50, 50', 50", 50"') derart steuert, dass innerhalb eines Applikationszeitintervalls von weniger als 4 Sekunden, insbesondere weniger als 2 Sekunden:
a) ein erstes Fluid während mindestens eines ersten Förderintervalls (T1) mit einem ersten Druck (ph) in einer ersten Zulaufleitung (11);
b) ein zweites Fluid während eines zweiten, dem ersten Förderintervall (T1) zeitlich nachgelagerten Förderintervalls (T2) mit einem zweiten Druck (pz) in einer zweiten Zulaufleitung (23); und
c) das erste Fluid während mindestens eines dritten Förderintervalls (T3) mit einem dritten Druck (pl) in der ersten Zulaufleitung (11) gefördert wird.
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