- 专利标题： UNDULATOR, FREE ELECTRON LASER AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
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申请号： EP15712652.5申请日： 2015-03-30
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公开(公告)号： EP3126910B1公开(公告)日： 2019-05-15
- 发明人: NIKIPELOV, Andrey, Alexandrovich , AKKERMANS, Johannes, Antonius, Gerardus , GRIMMINCK, Leonardus, Adrianus, Gerardus , LOOPSTRA, Erik, Roelof , RENKENS, Michael, Jozef, Mathijs , TOMA, Adrian , NIENHUYS, Han-Kwang
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven NL
- 代理机构： Slenders, Petrus J. W.
- 优先权： EP14162828 20140331
- 国际公布： WO2015150315 20151008
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; F17C3/08 ; F25D19/00 ; H01F1/055 ; H01F6/04 ; H01F7/02 ; H01S3/09 ; H05H7/04
公开/授权文献
- EP3126910A1 AN UNDULATOR 公开/授权日：2017-02-08
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