- 专利标题： EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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申请号： EP16197278.1申请日： 2007-01-19
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公开(公告)号： EP3147710B1公开(公告)日： 2019-04-10
- 发明人: Shibazaki, Yuichi
- 申请人： Nikon Corporation
- 申请人地址： 15-3, Konan 2-chome Minato-ku Tokyo 108-6290 JP
- 专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人地址： 15-3, Konan 2-chome Minato-ku Tokyo 108-6290 JP
- 代理机构： Hoffmann Eitle
- 优先权： JP2006011506 20060119; JP2006044599 20060221; JP2006236878 20060831
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
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