- 专利标题: PROCEDE DE REALISATION D'UN DETECTEUR BOLOMETRIQUE
- 专利标题(英): EP3401657A1 - Method for manufacturing a bolometric detector
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申请号: EP18170940.3申请日: 2018-05-04
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公开(公告)号: EP3401657A1公开(公告)日: 2018-11-14
- 发明人: LEDUC, Patrick , CORTIAL, Sébastien , POCAS, Stéphane , YON, Jean-Jacques
- 申请人: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
- 申请人地址: Bâtiment "Le Ponant D" 25 rue Leblanc 75015 Paris FR
- 专利权人: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
- 当前专利权人: Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
- 当前专利权人地址: Bâtiment "Le Ponant D" 25 rue Leblanc 75015 Paris FR
- 代理机构: Brevalex
- 优先权: FR1754060 20170509
- 主分类号: G01J5/02
- IPC分类号: G01J5/02 ; G01J5/20 ; H01L31/18
摘要:
Procédé de réalisation d'un détecteur (100) bolométrique comprenant :
- réalisation d'un empilement, sur un niveau d'interconnexion (20) d'un circuit de lecture, comprenant une couche sacrificielle disposée entre une couche support (32) et une couche d'arrêt de gravure (29), la couche sacrificielle comprenant un matériau minéral ;
- réalisation d'un via (38) conducteur traversant l'empilement tel qu'il soit en contact avec une portion conductrice (21) dudit niveau d'interconnexion ;
- dépôt d'une couche conductrice sur la couche support et le via ;
- gravure de la couche conductrice et de la couche support, formant une membrane (54) de bolomètre reliée électriquement au via par une portion restante (44) de la couche conductrice qui recouvre une partie supérieure (40) du via ;
- suppression de la couche sacrificielle par une gravure chimique sélective, et telle que la membrane soit suspendue par le via.
- réalisation d'un empilement, sur un niveau d'interconnexion (20) d'un circuit de lecture, comprenant une couche sacrificielle disposée entre une couche support (32) et une couche d'arrêt de gravure (29), la couche sacrificielle comprenant un matériau minéral ;
- réalisation d'un via (38) conducteur traversant l'empilement tel qu'il soit en contact avec une portion conductrice (21) dudit niveau d'interconnexion ;
- dépôt d'une couche conductrice sur la couche support et le via ;
- gravure de la couche conductrice et de la couche support, formant une membrane (54) de bolomètre reliée électriquement au via par une portion restante (44) de la couche conductrice qui recouvre une partie supérieure (40) du via ;
- suppression de la couche sacrificielle par une gravure chimique sélective, et telle que la membrane soit suspendue par le via.
公开/授权文献
- EP3401657B1 PROCEDE DE REALISATION D'UN DETECTEUR BOLOMETRIQUE 公开/授权日:2024-04-03
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