发明公开
- 专利标题： METHOD AND APPARATUSES FOR DISPOSING OF EXCESS MATERIAL OF A PHOTOLITHOGRAPHIC MASK
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申请号： EP18746856.6申请日： 2018-07-17
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公开(公告)号： EP3655819A1公开(公告)日： 2020-05-27
- 发明人: BUDACH, Michael , BAUR, Christof , EDINGER, Klaus , BRET, Tristan
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Wegner, Hans
- 优先权： DE102017212567 20170721
- 国际公布： WO2019016224 20190124
- 主分类号： G03F1/72
- IPC分类号： G03F1/72 ; G03F1/82
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