- 专利标题： BARRIER RUTHENIUM CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY
-
申请号： EP19777843.4申请日： 2019-03-11
-
公开(公告)号： EP3775076A2公开(公告)日： 2021-02-17
- 发明人: LIN, David (TAWEI) , HU, Bin , WEN, Liqing (RICHARD)
- 申请人： FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc.
- 申请人地址： US North Kingstown RI 02852 80 Circuit Drive
- 代理机构： dompatent von Kreisler Selting Werner - Partnerschaft von Patent- und Rechtsanwälten mbB
- 优先权： US201862649324 P 20180328
- 国际公布： WO2019190730 20191003
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; C09G1/04 ; C23F3/00
信息查询
