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发明公开
BARRIER RUTHENIUM CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY 审中-公开

公开(公告)号：EP3775076A2

公开(公告)日：2021-02-17

申请号：EP19777843.4

申请日：2019-03-11

申请人： FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc.

发明人： LIN, David (TAWEI) , HU, Bin , WEN, Liqing (RICHARD)

IPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04 , C23F3/00