发明公开
- 专利标题： SYSTEM AND METHOD FOR ALIGNING ELECTRON BEAMS IN MULTI-BEAM INSPECTION APPARATUS
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申请号： EP19773417.1申请日： 2019-09-20
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公开(公告)号： EP3867942A1公开(公告)日： 2021-08-25
- 发明人: HU, Xuerang , LUO, Xinan , XI, Qingpo , LIU, Xuedong , REN, Weiming
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： NL 5500 AH Veldhoven P.O. Box 324
- 代理机构： ASML Netherlands B.V.
- 优先权： US201862748251 P 20181019
- 国际公布： WO2020078660 20200423
- 主分类号： H01J37/28
- IPC分类号： H01J37/28 ; H01J37/317
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