Eine Gasflussleiteinrichtung (2) zum Leiten eines Gasflusses (G) weist einen Ringkörper (10) auf, der zur Führung des Gasflusses ausgebildet ist und der sich entlang einer Axialachse (A) mit einer Ringkörperlänge (L) von einem ersten Ringkörperende (11) zu einem zweiten Ringkörperende (12) erstreckt, wobei der Ringkörper an dem ersten Ringkörperende eine erste Durchgangsöffnung (11a) und an dem zweiten Ringkörperende eine zweite Durchgangsöffnung (12a) aufweist, zwischen denen sich ein innerhalb des Ringkörpers angeordneter Ringkanal (13) erstreckt, wobei ein Innenmantel (14) des Ringköpers den Ringkanal ausgehend von der Axialachse in einer radialen Richtung (r) entlang der Axialachse begrenzt. Innerhalb des Ringkanals ist eine Leiteinheit (20) angeordnet, zum Leiten des durch den Ringkörper geführten Gasflusses, wobei die Leiteinheit mindestens ein erstes Leitelement (21, 23) umfasst, wobei das mindestens eine erste Leitelement sich entlang der Axialachse mit einer ersten Leitelementlänge (L1, L1', L1") von einem ersten Leitelementende (21a) zu einem zweiten Leitelementende (21b) erstreckt, sich in der radialen Richtung mit einer ersten Leitelementhöhe (H1, H1', H1") von einem ersten Leitelementfuß (F1) zu einer ersten Leitelementspitze (S1, S1', S1") erstreckt, und in Umfangsrichtung (U) eine erste Leitelementdicke (D1, D1', D1") aufweist.