- 专利标题： IN-SITU MONITORING SYSTEM ASSISTED MATERIAL AND PARAMETER DEVELOPMENT FOR ADDITIVE MANUFACTURING
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申请号： EP20718491.2申请日： 2020-03-20
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公开(公告)号： EP3941667A1公开(公告)日： 2022-01-26
- 发明人: GUPTA, Vipul Kumar , CHENNIMALAI KUMAR, Natarajan , VINCIQUERRA, Anthony Joseph , DIAL, Laura Cerully , DHEERADHADA, Voramon Supatarawanich , HANLON, Timothy , SALASOO, Lembit , PING, Xiaohu , ROYCHOWDHURY, Subhrajit , GAMBONE, Justin John
- 申请人： General Electric Company
- 申请人地址： US Schenectady, NY 12345 1 River Road
- 代理机构： Hafner & Kohl PartmbB
- 优先权： US201916360180 20190321
- 国际公布： WO2020191263 20200924
- 主分类号： B22F3/105
- IPC分类号： B22F3/105 ; B29C64/386 ; B29C64/393 ; B33Y10/00 ; B33Y30/00 ; B33Y50/00 ; B33Y50/02 ; B23K26/03 ; B23K26/342 ; B29C64/153 ; G05B19/4097 ; G05B19/4099
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