La présente description concerne une cellule mémoire comprenant un substrat comprenant une région semiconductrice (17) et une région isolante (16), une première couche isolante (18) et une deuxième couche (28) d'un matériau à changement de phase reposant sur la première couche isolante (18), la première couche isolante (18) étant traversée par des premier (24) et deuxième (26) vias conducteurs, le premier via conducteur étant en contact, par une extrémité, avec la première couche (28) et, par une autre extrémité, avec la région semiconductrice (17), le deuxième via conducteur (26) étant en contact, par une extrémité, avec la première couche (28) et une piste conductrice (32) d'un réseau d'interconnexions recouvrant la première couche et, par une autre extrémité, seulement avec la région isolante.