发明公开
- 专利标题： HISTOLOGICAL STAIN PATTERN AND ARTIFACTS CLASSIFICATION USING FEW-SHOT LEARNING
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申请号： EP21769242.5申请日： 2021-08-17
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公开(公告)号： EP4200743A1公开(公告)日： 2023-06-28
- 发明人: ROESSLER, Christian , NIE, Yao , SHAIKH, Nazim , BAUER, Daniel
- 申请人： Ventana Medical Systems, Inc.
- 申请人地址： US Tucson, Arizona 85755 1910 E. Innovation Park Drive
- 代理机构： Mewburn Ellis LLP
- 优先权： US202063069421 P 20200824
- 国际公布： WO2022046463 20220303
- 主分类号： G06K9/00
- IPC分类号： G06K9/00
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