- 专利标题： CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
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申请号： EP21911884.1申请日： 2021-12-10
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公开(公告)号： EP4263748A1公开(公告)日： 2023-10-25
- 发明人: CHENG, Qingmin , HU, Bin , LIANG, Yannan , WEN, Liqing (Richard)
- 申请人： Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.
- 申请人地址： US N. Kingstown, RI 02852 80 Circuit Drive
- 代理机构： dompatent von Kreisler Selting Werner - Partnerschaft von Patent- und Rechtsanwälten mbB
- 优先权： US202063128415 P 20201221
- 国际公布： WO2022140081 20220630
- 主分类号： C09K13/00
- IPC分类号： C09K13/00 ; C03C15/00 ; C03C25/68
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