- 专利标题： HIGHLY HOMOGENEOUS GLASS SPUTTER TARGETS WITH LARGE ASPECT RATIO AND HIGH RELATIVE DENSITY FOR PHYSICAL VAPOR DEPOSITION
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申请号： EP22834454.5申请日： 2022-07-04
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公开(公告)号： EP4363384A1公开(公告)日： 2024-05-08
- 发明人: MARRO, James , OKANO, Yoshio , AYRIKYAN, Azatuhi , PRESTON, William
- 申请人： SCHOTT Corporation , SCHOTT AG , Schott Japan Corporation
- 申请人地址： US Rye Brook, NY 10573 2 International Drive
- 专利权人： SCHOTT Corporation,SCHOTT AG,Schott Japan Corporation
- 当前专利权人： SCHOTT Corporation,SCHOTT AG,Schott Japan Corporation
- 当前专利权人地址： US Rye Brook, NY 10573 2 International Drive
- 代理机构： Schott Corporate IP
- 优先权： US 202163202977 P 2021.07.02
- 国际申请： US2022073405 2022.07.04
- 国际公布： WO2023279116 2023.01.05
- 主分类号： C03C3/062
- IPC分类号： C03C3/062 ; C23C14/06 ; H01J37/34 ; C03B25/00 ; C03B5/235 ; C03B23/025 ; C23C14/22 ; C23C14/34 ; H01J37/32
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