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发明专利
JP2010508448A Deposition of amorphous film having a graded bandgap by electron cyclotron resonance 有权

Deposition of amorphous film having a graded bandgap by electron cyclotron resonance
摘要：
プラズマからの蒸着により基板（１４）上に非晶質材料の膜を形成する方法を開示している。 基板（１４）を容器内に配置し、膜用前駆ガスを各管（２０）を通じて容器内に導入し、容器内を低圧にすべく未反応および解離ガスを容器から各管（２２）を通じて抽出する。 容器内でプラズマを生成するために分散型電子サイクロトロン共鳴（DECR）により容器内のガスに所定の周波数と出力レベルの連続したパルスとしてマイクロ波エネルギーを導入し、プラズマから材料を基板上に蒸着する。 蒸着した材料の厚さにわたってバンドギャップを変化させるべく材料の蒸着中にパルスの周波数および／または出力レベルを変える。
【選択図】図１
摘要（英）：

It discloses a method of forming a film of an amorphous material on a substrate (14) by deposition from a plasma. The substrate (14) disposed in the container, a film precursor gas is introduced into the vessel through each tube (20), extracting unreacted and dissociated gas from the vessel in order to the vessel pressure through each tube (22) to. In introducing the microwave energy as a continuous pulse of the distributed electron cyclotron resonance (DECR) by a predetermined frequency into the gas in the container the output level to produce a plasma in the container, depositing material on a substrate from the plasma . Changing the frequency and / or power level of the pulses during the deposition of the material to vary the bandgap through the thickness of the deposited material.
.FIELD 1

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