Invention Patent
- Patent Title: Ｘ線光学系
- Patent Title (English): X-ray optical system
- Patent Title (中): X光系统
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Application No.: JP2014179079Application Date: 2014-09-03
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Publication No.: JP2015007647APublication Date: 2015-01-15
- Inventor: EZOE YUICHIRO , MITSUISHI IKUYUKI , MITSUDA KAZUHISA , JOSEF J HURGHADA
- Applicant: 公立大学法人首都大学東京 , Tokyo Metropolitan Univ , 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 , Japan Aerospace Exploration Agency , 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- Assignee: 公立大学法人首都大学東京,Tokyo Metropolitan Univ,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構,Japan Aerospace Exploration Agency,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- Current Assignee: 公立大学法人首都大学東京,Tokyo Metropolitan Univ,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構,Japan Aerospace Exploration Agency,独立行政法人 宇宙航空研究開発機構
- Priority: JP2014179079 2014-09-03
- Main IPC: G21K1/06
- IPC: G21K1/06 ; G21K1/00
Abstract:
【課題】簡易に製造でき、軽量かつ結像性能の良いX線集光結像系であって、反射率及びエネルギー帯域が飛躍的に向上したX線光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】微細構造体の材質であるシリコンやニッケルにマイクロマシン技術で製作した曲面穴構造の側壁に原子層体積法を用いてサブnmレベルの正確さで、HfO2およびAl2O3等の反射膜が成膜されたX線光学装置。【選択図】図8
Public/Granted literature
- JP5920796B2 X線反射装置の製造方法 Public/Granted day:2016-05-18
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