发明专利
JP2015064494A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物
有权
丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子器件的方法，电子器件和化合物
- 专利标题： 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物
- 专利标题（英）： Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound
- 专利标题（中）： 丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子器件的方法，电子器件和化合物
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申请号： JP2013198820申请日： 2013-09-25
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公开(公告)号： JP2015064494A公开(公告)日： 2015-04-09
- 发明人: 片岡 祥平 , 白川 三千紘 , 加藤 啓太 , 北村 哲 , 山本 長生
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理商 渡辺 望稔; 三和 晴子; 伊東 秀明; 三橋 史生
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/038 ; G03F7/075 ; C07C381/12 ; C07C309/06 ; C07C309/17 ; C07F7/18 ; C07F9/59 ; C07F9/09 ; C07F9/6553 ; C07F9/655 ; C07C69/708 ; C07C309/42 ; C07D211/96 ; C07D333/46 ; C07D327/06 ; H01L21/027 ; G03F7/004
摘要：
【課題】ネガ型現像に使用する場合にはパターン倒れが抑制され、ポジ型現像に使用する場合にはパターンプロファイルに優れたパターンが形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】基板上に感活性光線又は放射線性樹脂組成物膜を形成するために使用される感活性光線又は感放射線性樹脂組成物であって、下記(A1)及び(A2)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物(A)、及び (A1)基板密着性基を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 (A2)基板密着性基及び酸基を有する化合物 酸の作用によって分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂(P) を少なくとも含有する感活性光線又は感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
公开/授权文献
- JP6204773B2 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物 公开/授权日：2017-09-27
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