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公开(公告)号：JP2022001568A
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：JP2021096168
申请日：2021-06-08
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/20 , C07D493/04 , C07D493/14 , C08F20/10 , C08F12/24 , C07C381/12
摘要： 【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 [式中、R 1 は−O−L 1 −CO−O−R 5 、L 1 はアルカンジイル基、R 5 は酸不安定基、R 2 、R 3 及びR 4 はハロゲン原子等、m2は0〜4、m3及びm4は0〜5を表す。Q 1 及びQ 2 はフッ素原子等、R 11 及びR 12 は水素原子、zは0〜6の整数を表す。X 0 は−CO−O−等、A 1 は単結合等、X a 及びX b はO又はS、環Wはエステル結合等を含む複素環、環W1は脂環式炭化水素基を表す。] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2022001567A
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：JP2021096167
申请日：2021-06-08
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D319/08 , C07D327/04 , C07D307/00 , C08F12/24 , C08F20/10 , C07C381/12
摘要： 【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 [式中、R 1 は、−O−L 1 −CO−O−R 5 、L 1 はアルカンジイル基、R 5 は酸不安定基、R 2 、R 3 及びR 4 はハロゲン原子等、m2は0〜4、m3及びm4は0〜5の整数を表す。Q 1 及びQ 2 はフッ素原子等、R 11 及びR 12 は水素原子等、zは0〜6の整数、X 0 は−CO−O−等、A 1 は単結合等、X a 及びX b はO又はS、X 1 は脂環式炭化水素基、環Wは脂環式炭化水素基を表す。] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6944384B2
公开(公告)日：2021-10-06
申请号：JP2018002412
申请日：2018-01-11
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12
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公开(公告)号：JP2021147390A
公开(公告)日：2021-09-27
申请号：JP2021010256
申请日：2021-01-26
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D321/10
摘要： 【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができる塩及びこれを含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。 [式中、R 1 は、−O−L 1 −CO−O−R 5 、L 1 はアルカンジイル基、R 5 は酸不安定基;Q 1 及びQ 2 はF又はペルフルオロアルキル基;R 11 及びR 12 はH、F等;zは0〜6の整数;X 1 は、*−CO−O−、*−O−CO−等;L 2 は単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基;環Wは脂環式炭化水素環;R f1 及びR f2 はF又はフッ化アルキル基;sは1〜10の整数を表す。] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021123580A
公开(公告)日：2021-08-30
申请号：JP2021003519
申请日：2021-01-13
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C07C381/12 , C07C65/10 , C09K3/00 , C07D493/08 , C07D321/10 , C07C62/24
摘要： 【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができるカルボン酸塩及びこれを含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(I)で表されるカルボン酸塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 [式中R 1 はF又はC1〜4のフッ素化アルキル基;R 2 〜R 4 は夫々独立にハロゲン、C1〜4のフッ素化アルキル基又は−CH 2 −が−O−又は−CO−で置き換わっていてもよいC1〜12の炭化水素基;m2及びm3は0〜4の整数;m4は0〜5の整数;X 0 は−CH 2 −が−O−、−S−、−CO−又は−SO 2 −に置き換わっていてもよいC1〜72の炭化水素基] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021517562A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2020547339
申请日：2019-03-14
申请人： ヘレウス エプリオ エルエルシー
发明人： チャン ヨンチアン , シャーマ ラム ビー.
IPC分类号： C07C381/12 , C09K3/00 , C07C309/10
摘要： 新規な光酸発生剤化合物を提供する。その新規な光酸発生剤化合物を含む組成物も提供する。本開示はさらに、本明細書に開示されている光酸発生剤化合物及び光酸発生剤組成物の作製方法及び使用方法を提供する。その化合物及び組成物は、様々な微細加工用途における化学増幅レジスト組成物中の光活性成分として有用である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021080245A
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：JP2020180100
申请日：2020-10-28
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , G03F7/20 , C07C69/80 , C07C69/90 , C07C381/12 , C07C25/00 , C07D333/76 , C07C69/92
摘要： 【課題】KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、溶解コントラスト、酸拡散抑制能に優れ、CDUや、LWR、感度等のリソグラフィー性能に優れる化学増幅レジスト組成物、これに使用される酸拡散抑制剤、及び該化学増幅レジスト組成物を用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるオニウム塩化合物、該オニウム塩化合物からなる酸拡散抑制剤、及び該酸拡散抑制剤を含む化学増幅レジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021512854A
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2020539834
申请日：2019-10-11
申请人： エルジー・ケム・リミテッド
IPC分类号： C07C309/12 , C07C321/30 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C381/12
摘要： 本明細書は、化合物、これを含むフォトレジスト組成物、これを含むフォトレジストパターン及びフォトレジストパターンの製造方法を提供する。
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公开(公告)号：JP2021075521A
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2020179218
申请日：2020-10-26
申请人： 住友化学株式会社
IPC分类号： C09K3/00 , C07D307/93 , C07D307/00 , C07D307/33 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C381/12
摘要： 【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 [式中、Q 1 及びQ 2 は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R 1 及びR 2 は、それぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。zは0〜6の整数を表す。X 1 は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表し、*は、C(R 1 )(R 2 )又はC(Q 1 )(Q 2 )との結合部位を表す。L 1 は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 は、それぞれ水素原子又は飽和炭化水素基を表すか、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 から選ばれる2つは、互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともにアルキル基を有してもよい脂環式炭化水素基を形成する。Z + は有機カチオンを表す。] 【選択図】なし
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