Invention Patent
- Patent Title: 高設開口層を組み込むディスプレイ装置およびその製造方法
- Patent Title (English): Display device and a method of manufacturing the same incorporate a high-設開 opening layer
- Patent Title (中): 显示装置及其掺入高设开口层制造方法
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Application No.: JP2016500552Application Date: 2014-03-03
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Publication No.: JP2016513822APublication Date: 2016-05-16
- Inventor: ティモシー・ジェイ・ブロスニハン , ジャヴィエル・ヴィラレアル , マイケル・アンドリュー・ジングラス
- Applicant: ピクストロニクス,インコーポレイテッド
- Applicant Address: アメリカ合衆国,カリフォルニア州 92121−1714,サンディエゴ,モアハウスドライブ 5775
- Assignee: ピクストロニクス,インコーポレイテッド
- Current Assignee: ピクストロニクス,インコーポレイテッド
- Current Assignee Address: アメリカ合衆国,カリフォルニア州 92121−1714,サンディエゴ,モアハウスドライブ 5775
- Agent 村山 靖彦; 実広 信哉; 阿部 達彦
- Priority: US13/842,882 2013-03-15
- International Application: US2014019910 JP 2014-03-03
- International Announcement: WO2014149621 JP 2014-09-25
- Main IPC: G02B26/02
- IPC: G02B26/02 ; B81B7/02 ; B81C1/00 ; G09F9/00 ; G09F9/37
Abstract:
本開示は、画像を表示するためのシステム、方法、および装置を提供する。いくつかのそのような装置は、基板に結合された表示素子のアレイと、表示素子のアレイの上に懸架された高設開口層(EAL)とを含む。EALは、基板に結合され、表示素子の各々について、光の通過を可能にするための少なくとも1つの開口を含む。そのような装置を製造するための方法は、EALを貫通するエッチングホールを形成するステップと、少なくとも部分的に昇華性の犠牲型を用いるステップと、二相解放プロセスを用いるステップと、犠牲型の一部が装置の一部を取り囲んで残るように、装置を解放するステップとのうちの少なくとも1つを含む。
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