Invention Patent
- Patent Title: 非線形光学結晶の不動態化
- Patent Title (English): Passivation of the nonlinear optical crystal
- Patent Title (中): 非线性光学晶体的钝化
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Application No.: JP2016507656Application Date: 2014-04-10
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Publication No.: JP2016522136APublication Date: 2016-07-28
- Inventor: ヴラディミル ドリビンスキ , ヴラディミル ドリビンスキ , ユン−ホ アレックス チュワン , ユン−ホ アレックス チュワン
- Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション , ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- Applicant Address: アメリカ合衆国、95035、カリフォルニア州、ミルピタス、ワン テクノロジイ ドライブ
- Assignee: ケーエルエー−テンカー コーポレイション,ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- Current Assignee: ケーエルエー−テンカー コーポレイション,ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- Current Assignee Address: アメリカ合衆国、95035、カリフォルニア州、ミルピタス、ワン テクノロジイ ドライブ
- Agent 特許業務法人YKI国際特許事務所
- Priority: US61/810,605 2013-04-10 US14/248,045 2014-04-08
- International Application: US2014033625 JP 2014-04-10
- International Announcement: WO2014169104 JP 2014-10-16
- Main IPC: C30B29/22
- IPC: C30B29/22 ; C01B35/12 ; C30B9/00 ; G01N21/896 ; G02F1/37 ; H01L21/66
Abstract:
検査器具に用いるための非線形光学結晶の不動態化は、フッ素、フッ化物イオン、及びフッ化物含有化合物のうちの少なくとも1つの存在下で非線形光学結晶を成長させることと、非線形光学結晶を機械的に調製することと、非線形光学結晶にアニーリングプロセスを実施することと、非線形光学結晶を水素含有または重水素含有不動態化ガスに曝露することとを含む。
Public/Granted literature
- JP6635914B2 非線形光学結晶の不動態化 Public/Granted day:2020-01-29
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IPC分类: