Invention Patent
JP2017103415A 成膜システム
审中-公开
- Patent Title: 成膜システム
- Patent Title (English): Deposition system
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Application No.: JP2015237518Application Date: 2015-12-04
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Publication No.: JP2017103415APublication Date: 2017-06-08
- Inventor: 鈴木 泰信 , 平田 俊治
- Applicant: 東京エレクトロン株式会社
- Applicant Address: 東京都港区赤坂五丁目3番1号
- Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee: 東京エレクトロン株式会社
- Current Assignee Address: 東京都港区赤坂五丁目3番1号
- Agent 長谷川 芳樹; 黒木 義樹; 柏岡 潤二
- Main IPC: C23C14/50
- IPC: C23C14/50 ; H01L21/677
Abstract:
【課題】被加工物上に形成される膜の中心の位置と当該被加工物の中心の位置とのずれを低減又は排除する。 【解決手段】一実施形態の成膜システムの成膜装置では、マスクが利用され、被加工物の円形のエッジよりも内側の領域上に膜が形成されることにより、成膜済被加工物が生成される。成膜済被加工物の回転ステージによる回転中にカメラによって取得された三以上の複数の画像から、周方向の異なる複数の箇所それぞれにおける成膜済被加工物のエッジと成膜済被加工物の膜のエッジとの間の複数の幅が求められる。また、複数の幅から、成膜済被加工物の中心の位置に対する成膜済被加工物の膜の中心の位置のずれ量が求められる。このずれ量を用いて、成膜装置に被加工物を搬送する搬送モジュールの搬送位置が補正される。 【選択図】図1
Public/Granted literature
- JP6634275B2 成膜システム Public/Granted day:2020-01-22
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IPC分类: