发明专利
- 专利标题： 還元触媒および還元反応装置
- 专利标题（英）： JP2018043172A - Reduction catalyst and reductive reaction device
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申请号： JP2016177841申请日： 2016-09-12
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公开(公告)号： JP2018043172A公开(公告)日： 2018-03-22
- 发明人: 山田 有紗 , 御子柴 智 , 小野 昭彦 , 工藤 由紀 , 田村 淳 , 北川 良太 , 堤 栄史 , 山際 正和 , 菅野 義経 , 元茂 朝日 , 井手 智仁
- 申请人： 株式会社東芝
- 申请人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 专利权人： 株式会社東芝
- 当前专利权人： 株式会社東芝
- 当前专利权人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 代理商 永井 浩之; 中村 行孝; 佐藤 泰和; 朝倉 悟; 関根 毅; 鈴木 順生; 前川 英明
- 主分类号： C25B11/04
- IPC分类号： C25B11/04 ; C25B11/06 ; C25B3/04 ; B01J31/02
摘要：
【課題】反応効率の高い還元触媒とそれを用いた還元反応装置の提供。 【解決手段】実施形態によれば、導電体と、前記導電体の表面に結合し得る有機修飾基からなる有機層を備え、前記有機修飾基が、含窒素複素環を含むことを特徴とする還元触媒が提供される。 【選択図】図4
公开/授权文献
- JP6636885B2 還元触媒および還元反応装置 公开/授权日：2020-01-29
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