发明专利
- 专利标题: 半導体装置及びその製造方法
- 专利标题(英): JP2018163970A - Semiconductor device and manufacturing method thereof
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申请号: JP2017060009申请日: 2017-03-24
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公开(公告)号: JP2018163970A公开(公告)日: 2018-10-18
- 发明人: 松尾 浩司
- 申请人: 東芝メモリ株式会社
- 申请人地址: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 专利权人: 東芝メモリ株式会社
- 当前专利权人: 東芝メモリ株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 代理商 池上 徹真; 須藤 章; 松山 允之
- 主分类号: H01L27/11548
- IPC分类号: H01L27/11548 ; H01L27/11578 ; H01L21/336 ; H01L29/788 ; H01L29/792 ; H01L21/02 ; H01L27/11551 ; H01L27/00 ; H01L21/3205 ; H01L21/768 ; H01L23/522 ; H01L25/065 ; H01L25/07 ; H01L25/18 ; H01L27/11575
摘要:
【課題】微細化に適した電極構造を有する半導体装置を提供する。 【解決手段】実施形態の半導体装置は、第1の導電層を有する第1の半導体回路層と、第2の導電層を有する第2の半導体回路層と、第1の半導体回路層と第2の半導体回路層との間に設けられ、第1の導電層と接する第3の導電層と、第2の導電層と接する第4の導電層と、第3の導電層と第4の導電層とを電気的に接続し第3の導電層に接する第5の導電層とを有する第3の半導体回路層とを備え、第5の導電層の幅が、第3の導電層の幅よりも狭い。 【選択図】図1
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