Invention Patent
- Patent Title: レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム
-
Application No.: JP2017145402Application Date: 2017-07-27
-
Publication No.: JP2019029435APublication Date: 2019-02-21
- Inventor: 岩清水 優 , 醍醐 浩之 , 西方 伸吾 , 益川 一範 , 落合 敦司 , 戎崎 俊一 , 和田 智之 , 滝澤 慶之
- Applicant: 三菱重工業株式会社 , 国立研究開発法人理化学研究所
- Applicant Address: 東京都港区港南二丁目16番5号
- Assignee: 三菱重工業株式会社,国立研究開発法人理化学研究所
- Current Assignee: 三菱重工業株式会社,国立研究開発法人理化学研究所
- Current Assignee Address: 東京都港区港南二丁目16番5号
- Agent 工藤 実; 中尾 圭策; 狩野 芳正
- Main IPC: H01S3/067
- IPC: H01S3/067 ; G02B6/42 ; G02B6/32 ; H01S3/10
Abstract:
【課題】複数のレーザービームを結合して高出力の合成レーザービームを得る。 【解決手段】レーザービーム照射装置が、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、第1レーザービームにそれぞれに対応する第2レーザービームを出射する集光光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径が該入射面に向けて広がるように第1レーザービームを出射するように構成されている。第1レーザービームのそれぞれは、集光光学系の入射面において、他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。集光光学系は、第2レーザービームのいずれについても、ビーム径が目標面において最小になり、且つ、該目標面における第2レーザービームの中心から光軸までの距離が、第2レーザービームのそれぞれのビーム半径よりも小さくなるように構成されている。 【選択図】図1
Public/Granted literature
- JP6923158B2 レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム Public/Granted day:2021-08-18
Information query