レーザモジュール及びファイバレーザ装置

    公开(公告)号:JP2021190452A

    公开(公告)日:2021-12-13

    申请号:JP2020091096

    申请日:2020-05-26

    发明人: 内山 正裕

    摘要: 【課題】波長が狭帯域化されたレーザ光を安定的に出力することができるレーザモジュールを提供する。 【解決手段】レーザモジュールは、光ファイバと、出射端面124Bからレーザ光Lを出射する半導体レーザ素子24と、レーザ光を集光して光ファイバに結合させる集光レンズと、レーザ光の光路上に位置する反射面140A,140B,140Cを有する波長安定化素子40A,40B,40Cとを備える。波長安定化素子40Aの反射面140Aは基準方向Dに対して角度θ 1 (=0)で配置され、波長安定化素子40Bの反射面140Bは基準方向Dに対して角度θ 2 (>θ 1 )で配置される。−θ H ≦θ 1 ≦θ H 、θ 2 −θ 1 ≦2θ H である。 【選択図】図5

    レーザ装置及び制御方法
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021170588A

    公开(公告)日:2021-10-28

    申请号:JP2020073023

    申请日:2020-04-15

    IPC分类号: G02B6/42 H01S3/067 H01S3/00

    摘要: 【課題】レーザ装置から出力されるレーザ光のビームプロファイルが指定されたプロファイルにならない場合に、ターゲットや光学部品に与える悪影響を軽減する。 【解決手段】制御方法(S1)は、レーザ光源の出力をPlowに設定する第1出力設定工程(S12)と、レーザ装置から出力されるレーザ光のビームプロファイルが指定されたプロファイルであるか否かを判定する判定工程(S14)と、判定工程(S14)にてビームプロファイルが指定されたプロファイルであると判定された場合に、レーザ光源の出力を、Plowよりも大きいPhighに設定する第2出力設定工程(S15)と、を含んでいる。 【選択図】図1

    パルスレーザ光生成伝送装置およびレーザ加工装置

    公开(公告)号:JP2021132070A

    公开(公告)日:2021-09-09

    申请号:JP2020025521

    申请日:2020-02-18

    发明人: 若山 雄貴

    摘要: 【課題】 レーザ加工装置等に用いる、小型、低コスト、高安定で、高出力なパルスレーザ光生成伝送装置を提供する。 【解決手段】 パルスレーザ光生成伝送装置は、パルスレーザ光を出力するファイバレーザ発振器101と、前記ファイバレーザ発振器が出力するパルスレーザ光のパルス幅を圧縮するパルス圧縮器102と、前記パルス圧縮器が出力するパルスレーザ光を伝送する中空コアファイバ103とが、光の伝搬方向に従って順に配置されている。 【選択図】図1