• Patent Title: 誘導加熱装置および誘導加熱方法
  • Application No.: JP2018071606
    Application Date: 2018-04-03
  • Publication No.: JP2019185882A
    Publication Date: 2019-10-24
  • Inventor: 真野 義也鈴木 慎太郎
  • Applicant: NTN株式会社
  • Applicant Address: 大阪府大阪市西区京町堀1丁目3番17号
  • Assignee: NTN株式会社
  • Current Assignee: NTN株式会社
  • Current Assignee Address: 大阪府大阪市西区京町堀1丁目3番17号
  • Agent 城村 邦彦; 熊野 剛
  • Main IPC: C21D9/40
  • IPC: C21D9/40 H05B6/10
誘導加熱装置および誘導加熱方法
Abstract:
【課題】短筒状のワークを精度良くかつ効率良く誘導加熱可能とする誘導加熱装置を提供する。 【解決手段】短筒状のワークWを狙い温度に誘導加熱するための加熱部2と、加熱部2に高周波電力を供給する電源とを備えた誘導加熱装置1において、加熱部2は、ワークWの径方向外側にワークWと同軸に配置される環状の外径側コイル部5と、ワークWの径方向内側にワークWと同軸に配置される螺旋状の内径側コイル部6とを備え、外径側コイル部5と内径側コイル部6とが電気的に直列接続されている。 【選択図】図2
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