发明专利
- 专利标题： 陰イオン交換膜およびその製造方法
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申请号： JP2019233684申请日： 2019-12-25
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公开(公告)号： JP2020143267A公开(公告)日： 2020-09-10
- 发明人: ユン,キョン ソク , キム,ビョン ヒョン , パク,チャン デ , ジョン,ミョン ス , ジョン,サン ヒョン , リュ,ウォン ソン , ユ,ジン ス
- 申请人： ダブリュー−スコープ コリア カンパニー,リミテッド
- 申请人地址： 大韓民国 28122 チュンチョンブク−ド,チョンジュ−シ,チョンウォン−グ,オチャン−ウプ,グァハクサンオプ 4−ロ,106
- 专利权人： ダブリュー−スコープ コリア カンパニー,リミテッド
- 当前专利权人： ダブリュー−スコープ コリア カンパニー,リミテッド
- 当前专利权人地址： 大韓民国 28122 チュンチョンブク−ド,チョンジュ−シ,チョンウォン−グ,オチャン−ウプ,グァハクサンオプ 4−ロ,106
- 代理商 ▲吉▼川 俊雄; 市川 寛奈
- 优先权： KR10-2019-0026643 2019-03-08 KR10-2019-0035495 2019-03-28
- 主分类号： B01D67/00
- IPC分类号： B01D67/00 ; B01D69/10 ; B01D69/12 ; B01D71/02 ; B01D71/26 ; B01D71/38 ; B01D71/52 ; B01D71/66 ; B01D71/68 ; B01D71/70 ; B01D71/82 ; C08J9/40 ; C08L23/02 ; C08L101/02 ; C08K3/013 ; C08J5/22
摘要：
【課題】製造コストを抑え、耐久性が高く、機械的物性に優れた陰イオン交換膜およびその製造方法を提供する。 【解決手段】重量平均分子量M w が250,000〜450,000のポリオレフィンを含む連続相マトリックスおよび前記マトリックス中で架橋された不連続相シラン変性ポリオレフィンを含む多孔性支持体;および前記多孔性支持体の気孔に含浸されたり、表面に塗布された陰イオン伝導性物質;を含む陰イオン交換膜およびその製造方法。 【選択図】図3
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