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公开(公告)号:JP2020143267A
公开(公告)日:2020-09-10
申请号:JP2019233684
申请日:2019-12-25
发明人: ユン,キョン ソク , キム,ビョン ヒョン , パク,チャン デ , ジョン,ミョン ス , ジョン,サン ヒョン , リュ,ウォン ソン , ユ,ジン ス
IPC分类号: B01D67/00 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/02 , B01D71/26 , B01D71/38 , B01D71/52 , B01D71/66 , B01D71/68 , B01D71/70 , B01D71/82 , C08J9/40 , C08L23/02 , C08L101/02 , C08K3/013 , C08J5/22
摘要: 【課題】製造コストを抑え、耐久性が高く、機械的物性に優れた陰イオン交換膜およびその製造方法を提供する。 【解決手段】重量平均分子量M w が250,000〜450,000のポリオレフィンを含む連続相マトリックスおよび前記マトリックス中で架橋された不連続相シラン変性ポリオレフィンを含む多孔性支持体;および前記多孔性支持体の気孔に含浸されたり、表面に塗布された陰イオン伝導性物質;を含む陰イオン交換膜およびその製造方法。 【選択図】図3