发明专利
- 专利标题： 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
- 专利标题（英）： SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
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申请号： JP2021055289申请日： 2021-03-29
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公开(公告)号： JP2021178812A公开(公告)日： 2021-11-18
- 发明人: 小室 勝洋 , 西谷 暢彦 , 市川 幸司
- 申请人： 住友化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 代理商 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
- 优先权： JP2020082722 2020-05-08
- 主分类号： C09K3/00
- IPC分类号： C09K3/00 ; C07D327/04 ; C07D321/10 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/038 ; G03F7/20 ; C07D307/00
摘要：
【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば、式(I−8)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 【選択図】なし
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