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公开(公告)号:JP2021178812A
公开(公告)日:2021-11-18
申请号:JP2021055289
申请日:2021-03-29
申请人: 住友化学株式会社
IPC分类号: C09K3/00 , C07D327/04 , C07D321/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C07D307/00
摘要: 【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)を有するレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物を提供する。 【解決手段】例えば、式(I−8)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP6902831B2
公开(公告)日:2021-07-14
申请号:JP2016123069
申请日:2016-06-21
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , C07C381/12 , C07D327/04 , C07J1/00 , C08F220/26 , C08F212/14 , G03F7/004
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公开(公告)号:JP2020528924A
公开(公告)日:2020-10-01
申请号:JP2020506217
申请日:2018-06-29
IPC分类号: C07D307/78 , C07D307/79 , C07D307/83 , C07D307/80 , A61K31/343 , C07D333/52 , C07D333/56 , C07D333/62 , A61K31/423 , C07D491/048 , A61K31/192 , C07D495/04 , A61K31/428 , A61K31/4365 , C07D277/62 , C07D317/54 , A61K31/36 , C07D327/04 , C07D327/06 , A61K31/39 , A61P3/06 , A61P3/10 , A61P29/00 , A61P13/12 , A61P9/00 , A61P25/00 , A61P43/00 , A61P1/16 , A61P3/04 , A61P9/10 , C07C323/22 , C07D263/56
摘要: 本発明は、式(I)で表される構造を有する1,3−ジ置換ケテン類化合物及びその使用に関する。このような化合物は主にPPARαを活性化させ、PPPAδ及びPPPAγに対してもアゴニスト活性を有する。非アルコール性脂肪性肝疾患、特に非アルコール性肝炎のようなPPARの制御異常に関連する各種疾患の治療に使用可能であり、糖尿病、肥満症、線維化疾患、心血管疾患(心不全及びアテローム性動脈硬化などを含む)、腎臓疾患(慢性腎臓疾患及び腎不全などを含む)、脳変性疾患(アルツハイマー病などを含む)などを治療するための潜在力もあり、大きな利用価値がある。 【化1】
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公开(公告)号:JP6430580B2
公开(公告)日:2018-11-28
申请号:JP2017093458
申请日:2017-05-10
申请人: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人: ラインハイマー,ヨアヒム , テルテリャーン,ヴィオレタ , レッドリッヒ,シュテファン , クレムゾウ,ドリス , ローゼンバウム,クラウディア , ローラー,セバスティアン ゲオルギオス , グランメノス,ヴァッシリオス , ピルゲル,クリスティアン , レール,フランツ , ゲヴェーア,マルクス , シュタムラー,ゲルト , モンタグ,ユーリス , ザウター,フーベルト
IPC分类号: C07D403/12 , C07D405/04 , C07D249/12 , C07D213/64 , C07D401/12 , C07D239/52 , C07D239/34 , C07D231/08 , C07D285/08 , C07D277/34 , C07D271/10 , C07D261/12 , C07D271/06 , C07D233/70 , C07D307/58 , C07D263/38 , C07D231/12 , C07D487/04 , C07D417/14 , C07D257/04 , C07D413/12 , C07D327/04 , C07D401/04 , C07C251/48 , A01N43/56 , A01P3/00 , A01N43/713 , A01N43/653 , A01N37/50 , A01N43/40 , A01N43/54 , A01N43/78 , A01N43/82 , A01N43/80 , A01N43/50 , A01N43/08 , A01N43/76 , A01N47/12 , A01N43/28 , A01N47/28 , C07D231/22
CPC分类号: A01N43/56 , A01N37/50 , A01N43/08 , A01N43/54 , A01N43/653 , A01N43/713 , A01N43/76 , A01N43/78 , A01N43/80 , A01N43/82 , A01N43/88 , A01N43/90 , A01N47/12 , A01N47/24 , A01N47/28 , C07D231/22 , C07D249/12
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公开(公告)号:JP6197037B2
公开(公告)日:2017-09-13
申请号:JP2015525166
申请日:2014-06-25
申请人: 株式会社トクヤマ
IPC分类号: C07C43/23 , C07C41/18 , C07D311/94 , C07D317/70 , C07D327/04 , B01J31/02 , C07C39/23
CPC分类号: C07C39/23 , C07C41/18 , C07C43/23 , C07D311/94 , C07D317/70 , C07D327/04 , C07C2601/16 , C07C2601/18 , C07C2603/94
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公开(公告)号:JP6183199B2
公开(公告)日:2017-08-23
申请号:JP2013258740
申请日:2013-12-13
申请人: JSR株式会社
发明人: 生井 準人
IPC分类号: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , C08F220/28 , C08F220/22 , C07D319/06 , C07D309/32 , C07D307/33 , C07D307/00 , C07D493/18 , C07D327/04 , C07D295/22 , C07D295/08 , G03F7/004
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公开(公告)号:JP6052283B2
公开(公告)日:2016-12-27
申请号:JP2014506104
申请日:2013-02-27
申请人: JSR株式会社
IPC分类号: C07C309/17 , C07C303/20 , C09K3/00 , C07D207/416 , C07D295/18 , C07D493/10 , C07D307/94 , C07D311/74 , C07D317/24 , C07D327/04 , C07D307/33 , C07D307/64 , C07D211/46 , C07D237/04 , C07D237/16 , C07D319/06 , C07D321/12 , C07D307/93 , C07D313/06 , G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C309/18 , C07C309/27 , C07C381/12 , C07D207/416 , C07D211/46 , C07D237/04 , C07D237/16 , C07D295/18 , C07D295/185 , C07D307/33 , C07D307/60 , C07D307/64 , C07D307/93 , C07D307/94 , C07D311/20 , C07D311/74 , C07D313/06 , C07D317/24 , C07D319/06 , C07D321/12 , C07D327/04 , C07D493/10 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C07C2101/08 , C07C2101/10 , C07C2101/14 , C07C2101/18 , C07C2103/74
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公开(公告)号:JP5972748B2
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:JP2012229815
申请日:2012-10-17
申请人: 住友化学株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , G03F7/039 , C07C381/12 , C09K3/00 , H01L21/027 , C07D327/04
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公开(公告)号:JP2016084350A
公开(公告)日:2016-05-19
申请号:JP2015241623
申请日:2015-12-10
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: C08F22/38 , C07C233/92 , C07D307/33 , C07D309/30 , C07D327/04 , C07C233/91
摘要: 【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】一般式(1)で表される化合物。式(1)中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、又は炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基である。R 1 は硫黄原子又は酸素原子である。R 2 は単結合又は2価の連結基である。Y 1 は多環式基を有する脂肪族炭化水素基(該脂肪族炭化水素基は、その炭素原子又は水素原子が置換基で置換されていてもよい)である。 [化1] 【選択図】なし
摘要翻译: 要解决的问题:提供灵敏度,分辨率,平版印刷特性和耐蚀刻性优异的抗蚀剂组合物用的化合物和使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。溶液:该化合物由通式 公式1)。 在式(1)中,R为氢原子,1-5C烷基或1-5C卤代烷基; R是硫原子或氧原子; 单键或二价连接基团; Y是具有多环基团的脂肪族烃基(脂肪族烃基中的碳原子或氢原子可以被取代基取代)。选择的图:无
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公开(公告)号:JP5638106B2
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:JP2013098712
申请日:2013-05-08
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: C07C381/12 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C309/10 , C07C309/13 , C07C309/19 , C07C311/48 , C07C311/53 , C07C317/04 , C07C317/10 , C07D213/79 , C07D285/00 , C07D327/04 , C07D493/18 , C09K3/00 , G03F7/004
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