发明专利
JP2021184358A 真空バルブの配置構造
审中-公开
- 专利标题: 真空バルブの配置構造
- 专利标题(英): VACUUM VALVE PLACEMENT STRUCTURE
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申请号: JP2020089652申请日: 2020-05-22
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公开(公告)号: JP2021184358A公开(公告)日: 2021-12-02
- 发明人: 近藤 淳一 , 染井 宏通 , 吉田 剛
- 申请人: 株式会社東芝 , 東芝インフラシステムズ株式会社
- 申请人地址: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 专利权人: 株式会社東芝,東芝インフラシステムズ株式会社
- 当前专利权人: 株式会社東芝,東芝インフラシステムズ株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都港区芝浦一丁目1番1号
- 代理商 特許業務法人スズエ国際特許事務所
- 主分类号: H01H33/662
- IPC分类号: H01H33/662 ; H01H33/66
摘要:
【課題】電気絶縁性や遮断性を一定に維持しつつ、開閉器を小型化することが可能なコンパクトな真空バルブの配置構造を提供する。 【解決手段】複数の真空バルブPを互いに隣り合うように並べて配置させる真空バルブの配置構造であって、真空バルブは、異なる形状の太形部27及び細形部28,29を有し、太形部は、細形部よりも大きく構成され、隣り合う2つの真空バルブは、双方の太形部の全体が互いに対向しないように配置されている。 【選択図】図3
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