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发明专利
JP2021504567A 熱安定性が高められたAl−Crベースのセラミックコーティング 审中-公开

熱安定性が高められたAl−Crベースのセラミックコーティング
摘要：
本発明は、アルミニウム、クロム、酸素、および窒素を含む多層膜を真空コーティングチャンバ内で生成する方法に関する。多層膜は、交互に堆積されたタイプAの層とタイプBの層とを有する。多層膜を堆積する際に、アルミニウムおよびクロムを含む少なくとも1つのターゲットを、PVD法によってカソードとして動作させるとともに、この方法においてアルミニウムおよびクロムを供給するための材料源として使用する。アルミニウムおよびクロムと反応させるために、酸素ガス流および窒素ガス流を反応ガスとして真空チャンバ内に導入し、それによって、多層膜を形成するための酸素および窒素を供給する。窒素および酸素を反応ガスとして同時に用いることによって、A層をAl−Cr−O−Nの酸窒化物層として堆積する。窒素のみを反応ガスとして用いてAl−Cr−N層を形成するために、酸素ガス流を減少させるとともに窒素ガス流を増加させることによって、B層をAl−Cr−Nの窒化物層として堆積する。多層膜内の酸素含有量と窒素含有量との関係は、原子百分率の比の値が1.8以上4以下となるような関係である。
摘要（英）：

The present invention relates to a method for producing a multilayer film comprising aluminum, chromium, oxygen and nitrogen, in a vacuum coating chamber, the multilayer film comprising layers of type A and layers of type B deposited alternate one of each other, wherein during deposition of the multilayer film at least one target comprising aluminum and chromium is operated as cathode by means of a PVD technique and used in this manner as material source for supplying aluminum and chromium, and an oxygen gas flow and a nitrogen gas flow are introduced as reactive gases in the vacuum chamber for reacting with aluminum and chromium, thereby supplying oxygen and nitrogen for forming the multilayer film, characterized in that: —The A layers are deposited as oxynitride layers of Al—Cr—O—N by using nitrogen and oxygen as reactive gas at the same time, —The B layers are deposited as nitride layers of Al—Cr—N by reducing the oxygen gas flow and by increasing the nitrogen gas flow in order to use only nitrogen as reactive gas for the formation of the Al—Cr—N layer, and wherein the relation between oxygen content and nitrogen content in the multilayer film correspond to a ratio in atomic percentage having a value between and including 1.8 and 4.

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