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发明专利
JP2021526146A フルオロスルホニル基を含有するイミド塩を調製するための方法 审中-公开

フルオロスルホニル基を含有するイミド塩を調製するための方法
摘要：
本発明は、次式(III)の化合物:R 2 −(SO 2 )−NM−(SO 2 )−F (III)[式中、R 2 は、F、CF 3 、CHF 2 、CH 2 F、C 2 HF 4 、C 2 H 2 F 3 、C 2 H 3 F 2 、C 2 F、C 3 F 7 、C 3 H 4 F 3 、C 3 HF 6 、C 4 F 9 、C 4 H 2 F 7 、C 4 H 4 F、CF 11 、C 6 F 13 、C 7 F 1 、C 8 F 17 またはC 9 F 19 の基のうち1つを表し、Mは、一価または二価のカチオンを表す]を調製するための方法であって、次式(I)の化合物:R 1 −(SO 2 )−NH−(SO 2 )−Cl (I)[式中、R 1 は、Cl、F、CF 3 、CHF 2 、CH 2 F、C 2 HF 4 、C 2 H 2 F 3 、C 2 H 3 F 2 、C 2 F、C 3 F 7 、C 3 H 4 F 3 、C 3 HF 6 、C 4 F 9 、C 4 H 2 F 7 、C 4 H 4 F、CF 11 、C 6 F 13 、C 7 F 15 、C 8 F 17 またはC 9 F 19 の基のうち1つを表し、R 1 は、好ましくはClを表す]を、少なくとも1つのフッ素化剤でフッ素化する工程b)と、工程b)で得られた組成物を蒸留する工程c)とを含む、方法に関する。 【選択図】なし
摘要（英）：

The present invention concerns a method for preparing a compound of the following formula (III): R2—(SO2)—NM—(SO2)—F (III) in which R2 represents one of the following radicals: F, CF3, CHF2, CH2F, C2HF4, C2H2F3, C2H3F2, C2F, C3F7, C3H4F3, C3HF6, C4F9, C4H2F7, C4H4F, CF11, C6F13, C7F1, C8F17 or C9F19. M represents a monovalent or divalent cation; the method comprising: —a step b) of fluorinating a compound of the following formula (I): R1—(SO2)—NH—(SO2)—Cl (I) in which R represents one of the following radicals: Cl, F, CF3, CHF2, CH2F, C2HF4, C2H2F3, C2H3F2, C2F, C3F7, C3H4F3, C3HF6, C4F9, C4H2F7, C4H4F, CF11, C6F13, C7F15, C8F17 or C9F19, R preferably representing Cl; with at least one fluorinating agent; 2—a step c) of distilling the composition obtained in step b).

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