- 专利标题： For cleaning inorganic residues on semiconductor substrate, the aqueous cleaning composition comprising a copper-specific corrosion inhibitor
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申请号： JP2002576566申请日： 2002-03-27
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公开(公告)号： JP4456330B2公开(公告)日： 2010-04-28
- 发明人: ウォジェトクザック，ウィリアム，エー． , グエン，ロング , セイホ，ファティマ，マ． , ベルナード，デビッド
- 申请人： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド
- 专利权人： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド
- 当前专利权人： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド
- 优先权： US81807301 2001-03-27
- 主分类号： C11D7/10
- IPC分类号： C11D7/10 ; C09K13/08 ; C11D7/26 ; C11D7/32 ; C11D7/60 ; G03F7/42 ; H01L21/02 ; H01L21/027 ; H01L21/304 ; H01L21/306 ; H01L21/3065 ; H01L21/311 ; H01L21/321 ; H01L21/3213
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